中國受美國出口管制影響，中國之精「羲之」定位精度可達 0.6 奈米，曝光良率不佳。機羲近導致成本偏高、度逼代育妈妈

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,難量 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源
：中國杭州人民政府）

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外媒報導 
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